С ростом мощности интегральных схем, их охлаждение становится более актуальной проблемой. Существующие системы, основанные на применении радиаторов и вентиляторов, не смогут справиться с данной задачей в будущем.

Одним из новых методов снижения температуры микрочипов является охлаждение жидкостью через микроканалы, выполненные в кристаллах полупроводниковых микросхем, а также полимерных или углеродных трубок проходящих через каналы платы. Однако известные технологии характеризуются высокой сложностью и стоимостью.

Госкорпорация «Росатом» совместно с Объединенным институтом высоких температур разработала технологию формирования каналов микронных и субмикронных размеров  с помощью лазерных импульсов. Для выполнения отверстий по поверхности кристалла кремния перемещают фокальное пятно инфракрасного хром-фостреритового лазера.

На разработку получен российский патент на изобретение № 2592732.

Новая  технология значительное дешевле аналогов и позволяет осуществлять охлаждение внутренних слоев кристаллов микросхем.